PVD技术出现于，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。在高速具领域的成功应用引起了制造业的高度重视，人们在开发高性能、高可靠性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。
与CVD工艺相比，PVD工艺处理温度低，在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响；薄膜内部应力状态为压应力，更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层；PVD工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。
CVD 制备铱高温涂层人们之所以对作涂层材料感兴趣是由于这类金属优良的性能。铱具有较强的能力和较高的熔点而受到重视， 是一种较理想的高温涂层材料 。
20 世纪 60 年代以来，惠州气相沉积设备，世界航空航天技术飞速发展，一些高熔点材料(如石墨碳和钨钼钽铌等难熔金属)被大量使用，化学气相沉积设备厂家，但这些材料的一个共同的致命缺点是能力差。
60 年代美国材料实验室(AFML)对石墨碳的铱保护涂层进行过大量的研究，采用了多种成型方法制备铱涂层 ，其中包括化学气相沉积法 。虽然没有制备出质量令人满意的厚铱涂层， 但仍认为 CVD是一种非常有希望且值得进一步研究的方法。
PCVD的工艺装置由沉积室、反应物输送系统、放电电源、真空系统及检测系统组成。气源需用气体净化器除往水分和其它杂质，经调节装置得到所需要的流量，再与源物质同时被送进沉积室，在一定温度和等离子体等条件下，得到所需的产物，气相沉积设备价格，并沉积在工件或基片表面。所以，PCVD工艺既包括等离子体物理过程，又包括等离子体化学反应过程。
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